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問答題

【計算題】確定在1200℃時，由SiCl₄源生長的外延層的生長速率。反應室的氣相質量轉移系數(shù)是h_G=5cm/s，表面反應速率常數(shù)為K_S=10⁷exp（-1.9eV/kT）cm/s，C_G=5*10¹⁶cm^-3。如果反應溫度降低2℃，生長速率將變化多少？

答案：

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【簡答題】為什么使用外延生長難以得到突變結？

答案：通常希望外延層和襯底之間界面處的摻雜濃度梯度很陡，但是由于高溫下進行外延生長，襯底中的雜質會進入外延層，使得外延層和襯底...

【簡答題】由外延生長的Grove模型得到外延生長速率與反應物濃度成正比，對于以SiCl₄為原料的硅外延為什么隨SiCl₄濃度的增加會出現(xiàn)負的生長速率？

答案：

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