<rt id="na5np"><delect id="na5np"><style id="na5np"></style></delect></rt>

<rt id="na5np"></rt>

<rt id="na5np"><delect id="na5np"><legend id="na5np"></legend></delect></rt>

【簡答題】對凈化間做一般性描述。

答案：凈化間是硅片制造設(shè)備與外部環(huán)境隔離，免受諸如顆粒、金屬、有機分子和靜電釋放（ESD）的玷污。一般來講，那意味著這些玷污在...

你可能感興趣的試題

問答題
【簡答題】例舉出硅片廠中使用的五種通用氣體。
答案：氧氣（O₂）、氬氣（Ar）、氮氣（N₂）、氫氣（H₂）和氦氣（He）。
問答題
【簡答題】描述在硅片廠中使用的去離子水的概念。
答案：去離子水：在半導體制造過程中廣泛使用的溶劑，在它里面沒有任何導電的離子。DI Water的PH值為7，既不是酸也不是堿，...