A.電荷弛豫的時(shí)間常數(shù)正比于媒質(zhì)的介電常數(shù) B.電荷弛豫的時(shí)間常數(shù)反比于媒質(zhì)的電導(dǎo)率 C.電荷弛豫過(guò)程中,媒質(zhì)內(nèi)部的電荷密度隨時(shí)間指數(shù)衰減 D.電荷弛豫過(guò)程中,電荷轉(zhuǎn)移到媒質(zhì)表面分布
A.集膚深度是衡量集膚效應(yīng)發(fā)展程度的一個(gè)重要參數(shù) B.集膚深度隨頻率的增加而減小 C.集膚深度隨導(dǎo)體電導(dǎo)率的增加而減小 D.集膚深度隨導(dǎo)體磁導(dǎo)率的增加而減小
A.集膚效應(yīng)會(huì)導(dǎo)致導(dǎo)體內(nèi)部電流分布不均勻,越靠近導(dǎo)線表面電流密度越大 B.集膚效應(yīng)會(huì)導(dǎo)致導(dǎo)線的交流電阻大于直流電阻 C.頻率越高,集膚效應(yīng)越明顯 D.集膚效應(yīng)會(huì)導(dǎo)致導(dǎo)線內(nèi)部的磁通減少