A.異構(gòu)脫蠟催化劑還原時循環(huán)氫純度≮99.9% B.異構(gòu)脫蠟催化劑還原時,系統(tǒng)壓力控制在14.4Mpa C.異構(gòu)脫蠟催化劑還原時,反應器入口溫度最高為300℃ D.異構(gòu)脫蠟催化劑還原結(jié)束標志是反應器系統(tǒng)壓力保持穩(wěn)定2小時,即壓降不超過0.17MPa/h
A.所有急冷氫閥門均關(guān)閉、催化劑床無溫差ΔT B.冷高分切不出水 C.反應器進出口H2S濃度相同 D.循環(huán)氣中的H2S濃度從開始一直維持在1~2vol%
A.低溫硫化,反應器出口溫度控制在218~232℃ B.高溫硫化,反應器出口溫度控制在300~315℃ C.硫化期間反應器平均溫度控制不超過330℃ D.硫化期間反應器內(nèi)任一點溫度控制不超過330℃