單項選擇題

以下工藝中，方塊電阻是一個重要的參數(shù)，一般用于衡量（）工藝中雜質(zhì)情況。

A.氧化
B.擴(kuò)散
C.光刻
D.刻蝕

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單項選擇題

在制作MOS管時，采用LOCOS工藝容易出現(xiàn)（）。

A.溝道效應(yīng)
B.鳥嘴效應(yīng)
C.寄生效用
D.閂鎖效應(yīng)

單項選擇題

光刻時，將掩模版直接放在晶圓表面，與表面的光刻膠接觸，該種光刻方式稱為（）。

A.接觸式
B.接近式
C.投影式
D.步進(jìn)式

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