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【簡答題】描述分立器件和集成電路的區(qū)別
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①分立器件:是由二極管、三極管等獨立的元器件組成的,一般只能完成單一功能,體積龐大。
②集成電路:把由若干個晶...
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【簡答題】解釋說明自對準柵工藝流程,為什么當圖形化尺寸小到0.18um時,使用鈷硅化物取代鈦硅化物?為什么當圖形化尺寸小到65nm時,使用鎳硅化物取代鈷硅化物?
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【簡答題】簡述CMOS IC工藝中的三種阱區(qū)形成工藝
答案:
高能量、低電流的離子注入;加熱退火/擴散工藝;自對準雙阱工藝。
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