問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述正性光刻和負(fù)性光刻的概念？?jī)?yōu)缺點(diǎn)？

答案： •正性光刻是把與掩膜版上相同的圖形復(fù)制到晶圓上。
•負(fù)性光刻是把與掩膜版上圖形相反的圖形復(fù)...
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【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述光刻的主要參數(shù)
答案： 在光刻工藝中，主要的參數(shù)有特征尺寸、分辨率、套準(zhǔn)精度和工藝寬容度等。
1. 特征尺寸
特征...
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