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判斷題

擴散的低壓工藝有多晶、氮化硅和TEOS。

答案：正確

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LPCVD多晶的反應(yīng)氣體是二氯二氫硅。

答案：錯誤

氮化硅去除使用的是磷酸藥液。

答案：正確

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