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掩模版一般是在石英玻璃涂抹上一定形狀的鉻等材料,形成明暗相間的圖形。
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制作MOS管時,一般先進行源的注入,再進行漏的注入。
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CMOS制作時,源、漏、柵等結(jié)構(gòu)都做在場氧化區(qū)。
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