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集成電路制造工藝員（三級）單項選擇題每日一練(2019.04.23)
單項選擇題
買來的新樹脂往往是Na型或Cl型，新樹脂使用前必須分別用酸（陽樹脂），堿（陰樹脂）浸泡約（）個小時，把Na型或Cl型轉(zhuǎn)換成H型或OH型。
A.3
B.4
C.5
D.6
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單項選擇題
大硅片上生長的（）的不均勻和各個部位刻蝕速率的不均勻會導致刻蝕圖形轉(zhuǎn)移的不均勻性。
A.薄膜厚度
B.圖形寬度
C.圖形長度
D.圖形間隔
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單項選擇題
在刻蝕（）過程中假如我們在CF5的等離子體內(nèi)加入適量的氧氣，能夠提高刻蝕的速率。
A.銅
B.鋁
C.金
D.二氧化硅
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單項選擇題
真空蒸發(fā)又被人們稱為（）。
A.真空沉積
B.真空鍍膜
C.真空外延
D.真空
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單項選擇題
化合物半導體砷化鎵常用的施主雜質(zhì)是（）。
A.錫
B.硼
C.磷
D.錳
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